下面我們主要來(lái)了解一下輝光離子滲氮爐的滲氮溫度和時(shí)間詳情。
1、氮化溫度和時(shí)間
離子滲氮和氣體滲氮通常都是在500~540℃之間，不同的材料通常是在450~ 540℃之間。溫度大于590℃的時(shí)候，氮化物積累，工件的硬度會(huì)直線下降。
加熱的速度直接決定于加熱工件表面的電流密度、工件體積與發(fā)光表面積的比值、工件的復(fù)雜性和散熱條件。為了降低變形的幾率，加熱速度不能太快，150~250℃/h即可。
輝光離子滲氮爐的滲氮絕緣溫度波動(dòng)小，比較穩(wěn)定。這個(gè)穩(wěn)定性一般是與爐壓、電壓密切有關(guān)系。因此，穩(wěn)定爐壓能穩(wěn)定電流密度，提升絕緣溫度的穩(wěn)定性。穩(wěn)定電壓可以穩(wěn)定電流密度，增強(qiáng)絕緣溫度的穩(wěn)定性。
2、氮化時(shí)間
氮化時(shí)間決定于氮化工件的材質(zhì)和氮化層的厚硬度，時(shí)間一般是幾十分鐘到幾十小時(shí)不等。在氮化時(shí)間低于20h的時(shí)候，氮化速率會(huì)高于氣體氮化速率。
滲氮時(shí)間多于20h的時(shí)候，兩種滲氮的速率相近。在滲氮層低于0.5mm的時(shí)候，離子滲氮的方式很合適。滲氮層深度是0.2~0.5mm時(shí)，絕緣8 ~ 20h即可。